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Applikationsmessungen der Dünnschichttechnik

Mit der Dünnschichttechnik lassen sich sehr dünne Ebenen aus unterschiedlichsten Materialien wie metallischen, dielektrischen oder halbleitenden Werkstoffen erzeugen. Die Abscheidung der Schichten erfolgt meist mithilfe physikalischer und chemischer Beschichtungsverfahren. Danach werden sie mittels fotolithografischer Prozesse strukturiert und anschließend geätzt. Die Schichtdicken liegen zwischen wenigen Mikrometern bis hinein in den Nanometerbereich.

Bekannt sind entsprechende Beschichtungen aus der Halbleitertechnik, der Nanotechnologie und der Produktion von Flüssigkristall-Bildschirmen (LCD). Weitere Einsatzfelder finden sich im Bereich Solarmodule, bei der Herstellung von Sensoren und in der Medizintechnik.

Um eine Isolationsschicht, eine Funktionsschicht, eine Schutzschicht oder mehrere dieser Ebenen übereinander in der gewünschten Stärke und mit den benötigten Leistungsmerkmalen erzeugen zu können, bedarf es einer hohen Präzision und des Wissens um die thermischen und elektrischen Eigenschaften der verwendeten Materialien. Bei der Produktentwicklung, der Prozesskontrolle und der Qualitätssicherung müssen deshalb geeignete Prüfverfahren zur Anwendung kommen, die exakte Messergebnisse liefern und eine genaue Analyse der Ausgangsstoffe und der daraus bestehenden Dünnfilme ermöglichen.

Angefangen von Laser-Dilatometern über Hall-Effekt- und LaserFlash-Messgeräte bis hin zu speziellen Thin-Film-Analyzern bietet LINSEIS eine breite Produktpalette, die sich im Bereich der Dünnschichttechnik vielseitig einsetzen lässt.

Messungen mit Dünnschicht-Material

 

TFA – thermoelektrische Dünnschicht – thermoelektrische Eigenschaften – Metalle und Legierungen

App. Nr. 02-013-002 TFA – thermoelectric thin film – thermoelectric properties – metals&alloys 2

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TFA – thermoelektrische Dünnschicht – thermoelektrische Eigenschaften – Halbleiter

App. Nr. 02-013-001 TFA – thermoelectric thin film – thermoelectric properties - semiconductor

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TFA – thermoelektrische Dünnschicht – thermoelektrische Eigenschaften – Halbleiter

App. Nr. 02-013-003 TFA – thermoelectric thin film – thermoelectric properties - semiconductor

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