薄膜技術の応用
薄膜技術は、金属、誘電体、半導電性材料など、さまざまな材料から非常に薄い層を製造するために使用できる。 この層は通常、物理的および化学的コーティング・プロセスを用いて蒸着される。
その後、フォトリソグラフィープロセスで構造化され、その後エッチングされる。 層の厚さは数マイクロメートルからナノメートルの範囲である。
対応するコーティングは、半導体技術、ナノテクノロジー、液晶ディスプレイ（LCD）の製造などで知られている。その他の応用分野としては、太陽光発電、センサー技術、医療技術などがある。
絶縁層、機能層、保護層、あるいはこれらの層を何層か重ねて所望の厚みで、要求される性能特性を持つように製造するには、使用する材料の熱的・電気的特性に関する高度な精度と知識が必要となる。
従って、製品開発、工程管理、品質保証において、正確な測定結果を提供し、出発材料とそれらから作られた薄膜の正確な分析を可能にするために、適切な試験方法を使用しなければならない。
まずは レーザー膨張計オーバー ホール効果そして レーザーフラッシュ測定装置から特殊な薄膜分析装置まで、LINSEISは薄膜技術の分野で様々な用途に使用できる幅広い製品を提供しています。
