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熱伝導率

熱伝導率・熱拡散率測定装置

リンセイの熱伝導率シリーズ

熱伝導率、熱拡散率、比熱容量を測定するには、分析する材料、測定温度、要求される精度によって様々な方法があります。

熱拡散率を測定する最も一般的な方法は、レーザー法またはライトフラッシュ法(LFA)です。光・レーザーフラッシュ法は、非常に広い温度範囲(-125~2800℃)とほぼ全熱伝導率範囲で使用できます

THB 過渡ホットブリッジ(THB)法は、PTB(Physikalisch-Technische Bundesanstalt)により最適化されたヒーティングワイヤー法で、熱伝導率、
熱拡散率、比熱容量を1分以内に測定することができます。熱伝導率の測定範囲は、断熱材からセラミック、金属まで多岐にわたります。

ヒートフローメーター(HFM)は、主に断熱材の品質管理に使用される古典的なプレート装置です。HFMは可能な限り高い精度で熱伝導率を測定することができます。

薄膜サンプル(nmからμmスケール)のために、LINSEISは新しい薄膜レーザーフラッシュ(TF-LFA)とユニバーサルチップベースの薄膜アナライザーを開発しました。 TFA (薄膜アナライザー) を開発しました。

熱伝導率、熱拡散率、比熱容量を測定するには、分析する材料、測定温度、要求される精度によって様々な方法があります。

熱拡散率を測定する最も一般的な方法は、レーザー法またはライトフラッシュ法(LFA)です。光・レーザーフラッシュ法は、非常に広い温度範囲(-125~2800℃)とほぼ全熱伝導率範囲で使用できます。

トランジェントホットブリッジ法(THB)は、PTB(Physikalisch-Technische Bundesanstalt:物理工学技術研究所)によって最適化されたヒーティングワイヤー法で、熱伝導率、
熱拡散率、比熱容量を1分以内に測定することができます。熱伝導率の測定範囲は、断熱材からセラミック、金属まで多岐にわたります。

ヒートフローメーター(HFM)は、主に断熱材の品質管理に使用される古典的なプレート装置です。HFMは可能な限り高い精度で熱伝導率を測定することができます。

LINSEISは新しい薄膜レーザーフラッシュ(TF-LFA)と薄膜サンプル(nmからμmスケール)用のユニバーサルチップベースの薄膜分析装置TFA(Thin Film Analyzer)を開発しました。

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アプリケーションとサンプルの概要

以下に、熱伝導率の各種測定器の概要を示します。これを参考にしてください。測定や材料に関するご質問は、お問い合わせフォームをご利用ください。

緑:測定可能

可能な測定

グレー:測定不可

GERÄT

LFA L51/L52

TIM-TESTER TIM L58

THB L56

HFM L57

TFA L59

TF-LFA L54

InfoUniversellstes MessgerätFür Thermal Interface MaterialsSchnelle und einfache MessungenFür isolierende MaterialienDünnschichten auf Linseis-ChipDünnschichten von nm bis μm
Messungen
Wärmeleitfähigkeit
Temperaturleitfähigkeit
Spez. Wärmekapazität
Spez. Wärmewiderstand
Bestimmter Druck auf die Probe
Definierte Atmosphären
Temperaturbereich-125°C bis +2800°C-20°C bis +300°C-150°C bis +700°C-40°C bis +90°C-170°C bis +300°C-100°C bis +500°C
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