熱伝導率
熱伝導率・熱拡散率測定装置
熱伝導率、熱拡散率、比熱容量を測定するには、分析する材料、測定温度、要求される精度によって様々な方法があります。
熱拡散率を測定する最も一般的な方法は、レーザーまたは レーザーフラッシュ法（LFA）.レーザーフラッシュ法は 、非常に広い温度範囲（-125℃～2800℃）で、ほぼすべての熱伝導率範囲で使用できます。
トランジェント・ホットブリッジ法 トランジェント・ホットブリッジ法(THB)は、PTB(Physikalisch-Technische Bundesanstalt)によって最適化されたヒーティングワイヤー法です。 熱伝導率, 熱拡散率および 比熱容量を1分以内に測定できます。熱伝導率の測定範囲は、断熱材からセラミック、金属に及びます。
ヒートフローメーター ヒートフローメーター（HFM）は、主に絶縁材料の品質管理に使用される古典的なプレート装置です。HFMは可能な限り高い精度で熱伝導率を測定することができます。
薄膜サンプル（nm～μmスケール）のために、LINSEISは新しい薄膜レーザーフラッシュ（TF-LFA）を開発しました。 (TF-LFA)とユニバーサルチップベース薄膜分析装置 TFA（薄膜分析装置）.
リンザイス熱伝導率シリーズ
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エリカ
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+49 (0) 9287/880 0
info@linseis.de
アプリケーションとサンプルの概要
以下に、熱伝導率の各種測定器の概要を示します。 これを参考にしてください。 測定や材料に関するご質問は、お問い合わせフォームをご利用ください。
緑測定可能
可能な測定
グレー：測定不可
DEVICE | LFA | TIM-TESTER | THB | HFM | TFA | TF-LFA |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Info | Most universal measuring device | For Thermal Interface Materials | Quick and easy measurements | For insulating materials | Thin films on Linseis chip | Thin films from nm to μm |
| Measurements | ||||||
| Thermal conductivity | | | | | | |
| Thermal diffusivity | | | | | | |
| Specific heat capacity | | | | | | |
| Specific thermal resistance | | | | | | |
| Determined pressure on the sample | | | | | | |
| Defined atmospheres | | | | | | |
| Temperature range | -125°C up to +2800°C | -20°C up to +300°C | -150°C up to +700°C | -40°C up to +90°C | -170°C up to +300°C | -100°C up to +500°C |
| Price | €€ – €€€ | €€ | € | €€ | €€€ | €€€ |
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