Dünnschicht Analyse (TFA) - Dünnfilm Charakterisierung

Messtechnik zur Probencharakterisierung vom Nanometer (nm) bis Micrometer (µm) Bereich

Im Zeitalter der Nanotechnologie benötigen nun immer mehr Industrien und Anwender präzise Messdaten für sehr dünne Schichten. Den größten Bedarf hat dabei die Halbleiterindustrie mit typischen Produkten wie Licht emittierenden Dioden (LEDs), Phasenwechselspeicher oder Flachbildschirmen. Dabei werden häufig mehrere Schichten unterschiedlicher Materialien auf einem Substrat abgeschieden, um dadurch ein Bauteil mit einer bestimmten Funktion zu erstellen. Da sich die physikalischen Eigenschaften von Dünnfilmen meist von denen eines Vollmaterials unterscheiden, ist deren Charakterisierung für die Auslegung und Optimierung im Bereich des Wärmemanagements unbedingt erforderlich.

Basierend auf der bewährten Laser Flash Technik, bietet der Linseis Laserflash für dünne Schichten (TF-LFA) nun eine ganze Reihe neuer Möglichkeiten um die Stoffdaten von Dünnfilmen mit einer Dicke von 80 nm bis 20 µm zu analysieren.